Springen naar inhoud

Inductief gekoppeld plasma


  • Log in om te kunnen reageren

#1

Bleuken

    Bleuken


  • >250 berichten
  • 250 berichten
  • Ervaren gebruiker

Geplaatst op 15 juni 2014 - 13:17

Bij het gebruik van een inductief gekoppeld plasma is er steeds een optimale rf-power waarbij men werkt. Zou iemand mij kunnen vertellen wat er gebeurd wanneer de rf power beduidend hoger/lager zou zijn?

 

Alvast bedankt!


Dit forum kan gratis blijven vanwege banners als deze. Door te registeren zal de onderstaande banner overigens verdwijnen.

#2

rwwh

    rwwh


  • >5k berichten
  • 6847 berichten
  • Moderator

Geplaatst op 15 juni 2014 - 20:35

Wat denk je zelf? Wat doet dat RF?


#3

Bleuken

    Bleuken


  • >250 berichten
  • 250 berichten
  • Ervaren gebruiker

Geplaatst op 16 juni 2014 - 12:39

Rf loopt door de koperen spoel welke energie levert om een plasma te vormen, ik veronderstel dus als de rf lager is, dat er geen efficiente ionisatie meer zal zijn?

 

Wat er echter gebeurt bij een hogere rf, geen idee...


#4

rwwh

    rwwh


  • >5k berichten
  • 6847 berichten
  • Moderator

Geplaatst op 21 juni 2014 - 13:51

De Rf maakt het plasma niet! Wat ik me ervan herinner is dat je eerst een "ontsteking" nodig hebt. Als er eenmaal geladen deeltjes zijn, dan trekt de Rf die heel snel heen en weer en houdt het plasma op die manier warm. Bij te weinig dooft het plasma (hercombinatie tot neutrale deeltjes) en bij teveel krijg je teveel beweging, druk, en expansie, en dan kun je je plasma niet precies meer controleren.






0 gebruiker(s) lezen dit onderwerp

0 leden, 0 bezoekers, 0 anonieme gebruikers

Ook adverteren op onze website? Lees hier meer!

Gesponsorde vacatures

Vacatures